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等離子去膠機是一種利用等離子體技術進行表面清洗和去膠的設備。其基本原理是通過氣體放電產生等離子體，這些高能粒子能夠解離化學鍵、改變分子結構，從而有效去除硅片、玻...
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要想理解等離子表面處理系統，需要先了解等離子體的概念，等離子體，被譽為物質的第四態，是氣體在高溫、強電場或激光等能量作用下，部分或全部電離形成的一種由電子、離子、自由基及中性粒子組成的混合體系。與固態、液態、氣態相比，等離子體具有特殊的物理化學性質，如高能量密度、高反應活性等，這些特性使得等離子體在材料表面處理中展現出巨大的潛力。等離子表面處理系統利用等離子體對材料表面進行物理或化學改性的技術。其基本原理是通過將氣體(如氬氣、氧氣、氮氣等)引入真空腔室，并在其中施加電場或射頻...
[查看詳情]應用案例
等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫學、封裝領域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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